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一个坏消息,台积电正式回复,一个好消息,上海微电子突然宣布
时间: 2020-06-16 21:26
对于美国针对华为发布的新的“芯片禁令”,外界已经非常熟悉了,这一次的危机对于华为而言算是最近几年里最大的一次。毕竟华为自研芯片在华为自家的产业链中占有非常重要的地

对于美国针对华为发布的新的“芯片禁令”,外界已经非常熟悉了,这一次的危机对于华为而言算是最近几年里最大的一次。

毕竟华为自研芯片在华为自家的产业链中占有非常重要的地位,无论是智能手机板块还是通信业务板块,中间都牵扯着华为的自研芯片。

而美国的新规本质上就是希望斩断华为从半导体芯片代工厂商那里获得芯片制造的能力,毕竟就连华为轮值董事长郭平都表示,华为不具有芯片设计之外的芯片制造能力。

所以一旦切断华为芯片代工的渠道,就算是切断了华为自研芯片的发展方向,如今华为一方面正加快向台积电下订单,争取获得更多的高精度芯片的储备,另一方面也在努力寻找应对方案,以求平稳度过此次危机。

而就在华为寻找应对方案之时,一个坏消息突然传来了,根据经济日报消息显示,6月9日台积电股东大会上,台积电董事长刘德音对于最近全球科技圈发生的一些事情,以及对台积电接下来的决定作出了正式回复。

刘德音表示,台积电用了很多美国设备,短期不会改变,同时台积电也会遵守相关法规法律限制。

从刘德音的回复中可以了解到,最终极大可能是,台积电听从特朗普政府的指挥,对华为芯片“断供”。

这个消息对于华为而言真的很糟糕,不过天无绝人之路,就在6月10日上海微电子公司突然宣布了一个好消息,让国内大众喜出望外。

据悉,上海微电子将在2021-2022年交付第一台28nm工艺的国产沉浸式光刻机,此消息一出,国内科技圈都沸腾了,因为前一刻我国光刻机最高工艺还停留在90nm,现在一下子提到了28nm工艺。

这意味着我国在光刻机制造领域已经超过了日本的尼康和佳能,成为仅次于ASML公司的存在,这份超越怎能不令人喜悦呢?

而更令人惊喜的是,这台光刻机将使用ArF光源,套刻精度在1.9nm作用,在多次曝光下可以实现11nm制程芯片的生产。

如果改用精度更高的华卓精科工作台,在多重曝光下,还能够实现对7nm制程芯片的生产,并且,现如今我国还在研发EUV高端光刻机,一旦研发成功,对于我国半导体产业链具有重要意义。

从这一则消息来看,很快我国就有可能摆脱对ASML高精度光刻机的制约,在高精度光刻机领域做出突破,继而为华为找到一条具有非美国元器件的高精度芯片代工之路。

如今在蚀刻机领域我国拥有中微半导体,光刻机领域上海微电子也展现出了追平ASML公司的能力,至于EDA软件方面,华为内部也在努力开发,再配合上国内一些厂商的支持,相信在半导体芯片产业链中最核心的三个点都将被我国攻克,届时美国将再也没有机会在芯片领域制约我国技术的发展。

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